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日本東京2021年7月15日 /美通社/ -- 面向半導(dǎo)體、醫(yī)療保健和制藥行業(yè)的分子傳感和診斷產(chǎn)品領(lǐng)先制造商Atonarp今天宣布推出Aston，這是一個創(chuàng)新的原位半導(dǎo)體計量平臺，集成了等離子體離子源。
Ascon是半導(dǎo)體生產(chǎn)過程計量領(lǐng)域的一項重大進(jìn)展，可實現(xiàn)原位分子過程控制，并有助于現(xiàn)有晶圓廠更高效地運行，從而推動產(chǎn)量的提高。Ascon是一個用于半導(dǎo)體生產(chǎn)的強大平臺，從頭開始構(gòu)建，可替代多種傳統(tǒng)工具，并在一整套應(yīng)用中提供前所未有的控制水平，包括光刻、電介質(zhì)及導(dǎo)體蝕刻和沉積、腔室清潔、腔室匹配和氣體減排。
“通過Aston，我們看到某些應(yīng)用中單位流程吞吐量增長超過40%，這是一項重大改進(jìn)。即使晶圓廠總產(chǎn)量增長1%，也可以為一家典型的晶圓廠每年增加價值數(shù)千萬美元的產(chǎn)量，”Atonarp創(chuàng)始人兼首席技術(shù)官Prakash Murthy表示，
“如果將Aston裝配到現(xiàn)有生產(chǎn)工藝機(jī)具上，僅在六到八周內(nèi)即可帶來更高的產(chǎn)量，相比之下，若安裝新的生產(chǎn)設(shè)備則需要長達(dá)一年的時間，”Murthy補充道， “這將極大地幫助制造商提高生產(chǎn)水平，并幫助解決當(dāng)前半導(dǎo)體產(chǎn)能短缺的問題?！?/p>
快速可操作端點檢測（EPD）是運行半導(dǎo)體機(jī)具和晶圓廠最有效的方式。到目前為止，EPD尚未能部署在許多工藝步驟中，因為所需的原位傳感器無法承受惡劣的工藝或腔室清潔化學(xué)品，否則將遭受冷凝沉積物的堵塞。從歷史上看，晶圓廠被迫在固定時間進(jìn)行清潔來確保流程按時完成。相反，Aston通過在流程完成時進(jìn)行準(zhǔn)確檢測（包括腔室清潔）來優(yōu)化生產(chǎn)，從而將所需的清潔時間縮短高達(dá)80%。
Aston耐受腐蝕性氣體和氣化污染物冷凝液。它比現(xiàn)有解決方案更穩(wěn)健，采用獨立雙離子源（包括一個常規(guī)電子轟擊離子源和一個無燈絲等離子體發(fā)生器），能夠在半導(dǎo)體生產(chǎn)遇到的惡劣條件下可靠運行。這使得Aston能夠以原位狀態(tài)在苛刻環(huán)境中使用。在那種環(huán)境下，傳統(tǒng)電子式離子發(fā)生器會發(fā)生腐蝕，而且會迅速出現(xiàn)故障。
與傳統(tǒng)質(zhì)量分析儀相比，使用Aston的維修間隔長達(dá)100倍。它包括自清潔功能，可消除由于某些工藝中存在的冷凝物沉積而導(dǎo)致的污垢積累。
由于Aston會生成自己的等離子體，因此在它工作時，過程等離子體可有可無。這比發(fā)射光譜計量技術(shù)有明顯的優(yōu)勢，因為后者需要一個等離子體源來工作，這使Aston成為原子層沉積（ALD）和某些可能使用弱等離子體、脈沖等離子體或不使用等離子體進(jìn)行處理的金屬沉積工藝的理想選擇。
Ascon還通過提供量化、可操作的實時數(shù)據(jù)來改進(jìn)工藝一致性，通過人工智能（AI）促進(jìn)強大的機(jī)器學(xué)習(xí)功能，以符合要求最苛刻的工藝應(yīng)用。此外，由于實時數(shù)據(jù)統(tǒng)計分析和工藝腔室管理的高精度、高靈敏度和可重復(fù)性，這進(jìn)一步改進(jìn)了生產(chǎn)線并提高了產(chǎn)品產(chǎn)量。
Ascon主要用于化學(xué)氣相沉積（CVD）和蝕刻應(yīng)用，這兩種應(yīng)用的年增長率均超過13%。此款光譜儀可以在新工藝腔室的組裝過程中進(jìn)行安裝，也可將其加裝到已運行的現(xiàn)有腔室。
Ascon還可與ATI Korea開發(fā)的智能壓力控制器Psi配套使用。經(jīng)過歷時數(shù)月的綜合可行性評估，這一組合解決方案最近被三星選購，用于先進(jìn)的工藝控制應(yīng)用。
Aston現(xiàn)可接受評估和訂購，可進(jìn)行直接購買或通過Atonarp的全球合作伙伴網(wǎng)絡(luò)購買。
