新產品可為實驗室測試提供靈活性，并能夠提高PIC設計精度，從而加快上市時間
加利福尼亞州山景城2023年3月3日 /美通社/ -- 為提高對工藝技術的熟悉程度并增加光子集成電路（PIC）的可及性，OpenLight 今日宣布全面推出其工藝設計套件（PDK）采樣器。 該PDK采樣器是一款獨特的芯片級PIC，其中包含OpenLight的標準PDK元件，令客戶能夠在自家實驗室內全面測試PDK元件并驗證模型，從而在PH18DA流片中實現(xiàn)一次成功。 其元件包括OpenLight異構激光器、光放大器、100G PAM4 EAM調制器，以及高塔半導體PH18DA工藝中的其他有源和無源元件。
新工藝技術的采用通常涉及一條陡峭的學習曲線，對客戶而言是一項常見挑戰(zhàn)，尤其是伴隨著硅光子學領域的最新進展。 這款全新行業(yè)產品為客戶提供了一條捷徑，令其可以在定制PIC設計流片之前，獲取直接來自實驗室的數據，因而能夠立即對各個PDK元件展開測試。 通過能夠在自家實驗室內測試PDK元件，客戶對高塔半導體的PH18DA工藝信心增強，并且能夠對PIC進行光學和電氣探測。
OpenLight首席執(zhí)行官Adam Carter博士表示："通過高塔半導體提供的這款‘萬能'PIC， 客戶可以更好地通過我們的開放平臺對每個可用PDK元件進行采樣。" "OpenLight的使命是率先為行業(yè)提供正確的設計工具，并加速PIC在各類市場和應用中的大規(guī)模使用。 我們期待通過我們強大的PDK采樣器，為下一代設計鋪平道路。"
高塔半導體模擬事業(yè)部高級副總裁兼總經理 Marco Racanelli博士表示："OpenLight將繼續(xù)補充高塔現(xiàn)有的開放式晶圓代工產品。" "作為OpenLight的合作伙伴，此舉將使高塔的PH18DA工藝更易于為共同客戶所用，并幫助他們充分利用我們的技術。"
作為一家獨立公司，OpenLight于2022年6月成立，推出了全球首款具有異構集成III-V族元件的開放式硅光子平臺。 去年11月，該公司宣布其PDK全面上市。
OpenLight PDK采樣器包含兩個PIC。 如需聯(lián)系OpenLight，了解最新發(fā)布和定價，請聯(lián)系 info@openlightphotonics.com。 如需了解更多信息，請訪問 https://openlightphotonics.com/。
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